Prime Wafer

Pâtes de polissage pour wafers de première qualité

Cela fait plusieurs décennies que Nalco Water fournit de la silice colloïdale à l'industrie des wafers, et notre vaste expertise nous permet de produire certaines des pâtes de polissage de silicium de la plus haute qualité du secteur. 

Nos produits de silice colloïdale hautement stables offrent une pureté exceptionnelle, une taille de particule, une distribution et une morphologie contrôlées pour assurer des performances optimales dans vos processus de polissage de wafers de première qualité.

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Conception de pâtes de polissage de wafers pour :

Shield with checkmark

Taux d’élimination élevés

 

Gears with arrows

Performances stables

 

Arrow pointed down in circle.

Faible défectivité

 

Disinfection Icon
Excellentes finition de surface et planéité


Pâtes de silice colloïdale prêtes à l’emploi pour le polissage de wafers de silicium

  • Taille (nm) : 60 
  • pH : 11 
  • Stabilisant : Na+

  • Taille (nm) : 60 
  • pH : 8,5 
  • Stabilisant : Na+

  • Taille (nm) : 85 
  • pH : 11 - 12 
  • Stabilisant : NH4 
  • Remarques : additif chélateur

  • Taille (nm) : 85 
  • pH : 11 - 12 
  • Stabilisant : NH4 
  • Remarques : taux d’élimination du Si élevé. Dangereux.

  • Taille (nm) : 120
  • Surface m2/g : 25
  • % de solides : 47
  • pH : 9 - 10
  • Stabilisation : K+

Chemical Mechanical Planarization

Prise en charge de nombreuses applications de polissage

Nos pâtes de polissage à base de silice colloïdale sont largement utilisées pour les étapes de polissage de base, de polissage des bords et de polissage final dans la fabrication de wafers de silicium et d’autres substrats semi-conducteurs pour puces.

Ces pâtes sont également utilisées pour le finissage de précision des surfaces pour l'optique, les verres de montres et autres éléments de verre.

nanoparticlesforpolishing

Innover pour répondre aux besoins des formulateurs de pâtes de polissage de CMP

Nalco Water a fait appel à toutes ses capacités de production de silice colloïdale pour fournir des nanoparticules novatrices d’une extrême pureté répondant aux besoins des formulateurs de pâtes de polissage pour CMP.

  • Nanoparticules à base de silicate de sodium ultra-pur
  • Une gamme étendue de tailles de particules, de distributions granulométriques et de concentrations
  • Des produits techniques conçus pour rester stables sur une large plage de pH
  • Une forte collaboration de recherche
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Nalco Water est un leader en matière de silice colloïdale

  • Premier procédé breveté de fabrication de silice colloïdale en 1941
  • Un des plus grands fabricants de silice colloïdale au monde
  • Des équipes de RD&E novatrices pour le développement de produits personnalisés
  • Des produits conçus pour l’efficacité, la qualité et le contrôle de la fabrication
  • Valeur ajoutée importante grâce à une conception innovante des particules et une assistance de qualité

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Références

  1. Les produits ont été fabriqués à l’aide d’une approche LMSII technique pour éliminer les métaux ; [Cu] et [Ni] moins de 20 ppb. Disponibilité selon le volume.↵